超纯水(UPW)简介制造微电子元件需要大量高品质去离子水(DI水)或超纯水(UPW)。这些水主要用于晶圆清洗液和用于冲洗。 超纯水品质取决于其洁净度,颗粒等,污染物对制程过程产生极大影响并且直接关系到产品良率。所要求的洁净度随晶圆晶片结构以及平板显示器和储存介质生产中所用结构的不断小型化而提高。 无轴承泵助力超纯水(UPW)品质因通过晶圆厂超纯水供给管线上之移动零件或配件或是泵磨损生的颗粒都可能附着于晶圆表面并造成薄导电结构损坏或短路 LEVITRONIX公司无轴承泵系统(黑线)产生的微粒明显少于其它泵(红、绿及粉色线),因此有助于减少晶圆表面因微粒造成的缺陷。 在微电子制程中,超纯水或是去离子水供应管路内压力的变动对于制程或设备可能是个问题。复杂的制造处理过程越来越要求进入口压力高度稳定,以保持设备机台内部灵敏的制程区间。其结果是,任何压力波动都可能减少制程良率。 根据线性流量特性,整合流量计或压力感测器的LEVITRONIX公司无轴承泵成为一种高动态和精确的流量控制器,产生非常稳定的压力或不受供应源波动影响的流量。 |
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